![](/ru/images/st.gif) |
![](/ru/images/st.gif) |
![](/ru/images/ugtl.gif) |
Описание товара |
![](/ru/images/ugtr.gif) |
|
|
|
|
Информация о производителе
|
.
1.Pinciple of CVD,,2.Metal-CVD,,3.PE-CVD,,4.HDP-CVD,,5.LP-CVD,,6.UHV-CVD
336x280 banner
|
336x280 banner
|
|
|
![](/ru/images/ugtl.gif) |
Другие товары этого производителя : |
![](/ru/images/ugtr.gif) |
|
|
CVD-технология
|
|
1.Pinciple of CVD,,2.Metal-CVD,,3.PE-CVD,,4.HDP-CVD,,5.LP-CVD,,6.UHV-CVD
|
|
|
Делегация навыки
|
|
v h H ] e G D u @ [ T v u q | v P v H v O z q j | H v z C v n B K D | v H H E v I { Q V W v Q
|
|
|
|
|
FMEA
|
|
(1) FMEA P i a R (2) ] pFMEA I k (3) y {FMEA I k
|
|
|
Технология ворот оксид
|
|
1.Introduction,,2.Ultra-thin Oixde Preparation ,,3.Intrinsic Properties of Thermal Oxide and Characterization , ,4.Oxide Reliability, ,5.Limits of Oxide Scaling, ,6.High-k Dielectric Technology
|
|
|
Технология ворот оксид
|
|
1.Introduction,,2.Ultra-thin Oixde Preparation ,,3.Intrinsic Properties of Thermal Oxide and Characterization , ,4.Oxide Reliability, ,5.Limits of Oxide Scaling, ,6.High-k Dielectric Technology
|
|
|
Технология ворот оксид
|
|
1.Introduction,,2.Ultra-thin Oixde Preparation ,,3.Intrinsic Properties of Thermal Oxide and Characterization , ,4.Oxide Reliability, ,5.Limits of Oxide Scaling, ,6.High-k Dielectric Technology
|
|
|
|
|
|
|
|
Так же в категории "Прочие услуги": |
|
|
|
|
|
|
![](/ru/images/st.gif) |
![](/ru/images/st.gif) |
![](/ru/images/st.gif) |
![](/ru/images/st.gif) |
|
![](/ru/images/st.gif) |
|
|